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產(chǎn)品
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如何使用IT2800源表測量半導體材料表面電阻率
發(fā)布時(shí)間:2023/9/18 16:04:36

電子器件的許多重要參數與電阻率及其分布的均勻性有密切的關(guān)系,例如二極管的反向飽和電流,晶體管的飽和壓降和放大倍數β等,都直接與硅單晶的電阻率有關(guān)。因此器件的電阻率測試已經(jīng)成為芯片加工中的重要工序,對其均勻性的控制和準確的測量直接關(guān)系將來(lái)能否制造出性能更優(yōu)功率器件。

不同于使用萬(wàn)用表測量常規導體電阻,半導體硅單晶電阻率以及微電子領(lǐng)域的其他金屬薄膜電阻率的測量屬于微區薄層電阻測試,需要利用微小信號供電以及高精密的量測設備,包括測試接線(xiàn)方式上,也需要利用四線(xiàn)制的接法來(lái)提升測量結果的準確性,行業(yè)內稱(chēng)為四探針測試法。

什么是四探針測試法

四探針技術(shù)可測試對象主要有:晶圓片和薄層電阻,例如硅襯底片、研磨片、外延片,離子注入片、退火硅片、金屬膜和涂層等。利用探針?lè )治隹蓹z測整個(gè)芯片表面薄層電阻均勻性,進(jìn)而判斷離子注入片和注入工藝中存在的問(wèn)題。

四探針?lè )ò礈y量形狀可分為直線(xiàn)四探針?lè )ê头叫嗡奶结樂(lè )?/span>。

1)直線(xiàn)四探針?lè )?/span>

直線(xiàn)四探針測試法的原理是用針距為1mm的四根探針同時(shí)壓在樣品的平整表面上,利用恒流源給外面的兩個(gè)探針通以微小電流,然后在中間兩個(gè)探針上用高精密數字萬(wàn)用表測量電壓,最后根據理論公式計算出樣品的電阻率,電阻率計算公式:ρ=(V23/I)*2πS,S代表探針間距。

線(xiàn)四探針?lè )軠y出超過(guò)其探針間距三倍以上大小區域的不均勻性。

測試設備:不同探針間距探針臺+IT2806高精密源表+上位機軟件PV2800

IT2806高精密源表(簡(jiǎn)稱(chēng)SMU):集六種設備功能于一體(恒流源、恒壓源、脈沖發(fā)生器、6.5位DVM、電池模擬器,電子負載)。在電阻率的測試中,可將IT2806高精密源表切換至恒流源模式,在輸出電流同時(shí)量測中間兩探針之間的微小壓降,并搭配免費的PV2800上位機軟件,自動(dòng)得出電阻率的測量結果。

利用IT2800系列高精密源表測量電阻率的優(yōu)勢:

測試便捷:ITECH IT2800系列高精密源/測量單元標配免費的上位機PV2800軟件,并可選配不同直線(xiàn)探針間距的探針臺,利用軟件內置的公式,即可直接得出電阻率的測試結果。

測試精度高:高達100nV/10fA分辨率,電流量測精度最高可達0.1%+50pA,電壓量測精度最高可達0.015%+300uV;提供正向/反向電流連續變化測試,提高測試精度。

2)方形四探針?lè )?如范德堡法)

范德堡法適用于扁平,厚度均勻,任意形狀且不含有任何隔離孔的樣品材料測試。相比較直線(xiàn)型四探針?lè )?,對樣品形狀沒(méi)有要求。測試中,四個(gè)探針接觸點(diǎn)必須位于樣品的邊緣位置,測試接線(xiàn)方式也是在其中兩個(gè)探針點(diǎn)提供恒定電流,另外兩個(gè)點(diǎn)量測電壓。圍繞樣品進(jìn)行8次測量,對這些讀數進(jìn)行數學(xué)組合來(lái)決定樣品的平均電阻率。詳細測試方法可參見(jiàn)ASTM標準F76。

總結:利用IT2800系列高精密源/測量單元可以精準實(shí)現半導體薄層電阻的電阻率測試,為半導體制造工藝的改進(jìn)提供數據依據。IT2800系列源表/SMU因其高精度測量和豐富的探針臺治具優(yōu)勢,為行業(yè)提供專(zhuān)業(yè)的測試解決方案。



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