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產(chǎn)品
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14nm集成電路工藝教學(xué)套件
主要特性

●直觀(guān)全面及實(shí)踐性:直觀(guān)展示典型集成電路器件的制造工藝流程,實(shí)驗箱液晶顯示屏模擬真實(shí)工藝設備的參數設定,增強工藝教學(xué)的實(shí)踐性。
●與時(shí)俱進(jìn)及可拓展性:產(chǎn)品包含當前最新器件的制造工藝流程(如 FinFET、SOI 等),預留 1 個(gè)定制按鍵用于用戶(hù)特殊器件工藝的定制需求,集成電路工藝模擬器可以根據行業(yè)工藝技術(shù)的發(fā)展進(jìn)行同步更新。

概述 產(chǎn)品規格 附件和保修 資料下載

當前我國最先進(jìn)的集成電路量產(chǎn)工藝已經(jīng)進(jìn)入到14nm,以EUV光刻機為代表的工藝制造設備價(jià)格極其昂貴,高校很難采購這類(lèi)設備用于教學(xué),同時(shí),新手操作容易損壞,又有一定的危險性,使得高校集成電路工藝教育與真實(shí)工藝線(xiàn)人才需求脫節。為此,我們研發(fā)了14nm集成電路工藝套件。

該套件包含如下內容
1. 完整的14nm工藝線(xiàn)虛擬制造設備操作:氧化爐、CVD設備、PVD設備、刻蝕機、離子注入機、退火設備、外延設備。
2. 完整的14nm工藝線(xiàn)虛擬制造步驟及晶圓微觀(guān)結構、參數特性、電學(xué)特性等:氧化、淀積、光刻、刻蝕、離子注入、擴散、退火、外延。
3. 完成的14nm工藝線(xiàn)典型器件制造步驟及器件微觀(guān)結構、參數特性、電學(xué)特性等:14nm FinFET;GaAs;LDMOS;MOSFET;BJT;DIODE;RESISTOR。
4. 完善的工業(yè)級集成電路版圖設計,包含基本器件單元和電路的版圖設計及GDSⅡ文件的導入和導出。
5. 7nm微納電子教學(xué)套件銜接,實(shí)現從工藝制造到器件測試完整過(guò)程。

14nm集成電路工藝教學(xué)套件技術(shù)資料

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